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半导体工艺中真空泵油的选择

2017/6/8 9:07:21

随着信息科技产业的发展,半导体产品应用层面愈益广泛,车用及通讯用等电子产品持续发展。真空技术也随之不断创新,扩展至包括PVD/CVD镀膜制程、静电吸附盘及蚀刻制程等设备,在半导体产业己占有举足轻重的地位。但是半导体工业在芯片加工过程中必须使用一些特殊的气体与某些具有毒……

随着信息科技产业的发展,半导体产品应用层面愈益广泛,车用及通讯用等电子产品持续发展。真空技术也随之不断创新,扩展至包括PVD/CVD镀膜制程、静电吸附盘及蚀刻制程等设备,在半导体产业己占有举足轻重的地位。但是半导体工业在芯片加工过程中必须使用一些特殊的气体与某些具有毒性的强氧化剂,因而要求在工艺加工过程中广泛使用的真空泵及其专用油具有非常优越的适应性。
通常用的真空泵油有两种:碳氢化合物油与全氟聚醚油(PFPE)。碳氢化合物油极易燃烧,化学结构不稳定,容易降解,使得润滑性能容易降低,从而易导致真空泵出现故障。而PFPE由碳、氧、氟原子组成,属于耐腐蚀性气体真空泵油分类中的ISO-6743A-1987/DVBDVDVDF类油品。该油品中的氢原子全部为氟原子取代,由其分子结构特点决定,具有绝佳的热稳定性、化学惰性、不燃性。能够在VF3PH3AsH3及其它卤素化合物(BF3BC13PC13TIC14SnC14SIC14)等具有强腐蚀性的环境中保持稳定,甚至在高温下也有一定的抗腐蚀作用。豪可德真空科技认为与常规的油品相比,不仅安全,而且使用寿命长。PFPE可用于有制氧系统和有腐蚀气体的半导体系统和强辐射的场合,尤其是针对半导体芯片加工过程中有特殊气体及强腐蚀性化学物质的蚀刻制程和沉淀过程。

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